近零排放系統讓半導體廢水“轉危為安”

　　隨著電子設備主要用途的日益擴大，半導體材料對于我國的發展趨勢具有重要的現實意義。半導體材料廣泛應用于這一領域。根據生產制造原料和工藝流程的不同，廢水的廢水特性也不同，但都具有排水量大、環境污染治理能力強的特點，這嚴重威脅著生態環境保護的身心健康，也制約著其發展趨勢。

　　根據半導體材料制造廢水中污染物的特點，半導體材料廢水可以下三類：

　　1、含氟量廢水，廢水關鍵來自于半導體材料生產制造工藝流程的離子注入段，因為應用了很多的氫氧酸、氟化銨等實驗試劑，造成的環境污染如氯化物、氨氨等濃度較高廢水一般呈強酸堿性。

　　2、有機化學廢水，其環境污染化學物質主要是一些基本污染物質，生產制造濃度跟生產工藝流程及實際操作管理能力關聯很大，COD一般在200~3000mg/L。

　　3、金屬離子廢水，半導體材料廢水中的金屬離子類型諸多，關鍵如銅、鎳、錫、鉛、銀等，濃度一般在幾十mg/L。

　　近零排放系統采用Ryperm曲線微導力膜分離系統設計考慮水質波動情況，抗負荷沖擊強，納污性能好，能保證終端用水水質，整體工程集成化高，自動化程度高，既節省了系統占地，也減少運行維護人員，降低企業成本。具有回收率高，濃水排放少等特點。其工藝流程如下：

　　原水箱→原水泵→一體化凈水設備→多介質過濾器→Ryperm曲線微導力系統→收集水箱→用水點

　　近零排放系統根據用水點的用水需求，可以有效去除冷卻水中的硬度、微生物等有害成分，水回收率可以達到75%～90%。整套系統具有高效節水、環保省電的特點，整體工藝設計合理，利于用水體系的長期用水，且水質優良。